X射線熒光光譜儀是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線熒光(X-rayfluorescence,XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發(fā)出的次級X射線。這種現象被廣泛用于元素分析和化學分析,特別是在金屬,玻璃,陶瓷和建材的調查和研究,地球化學,法醫(yī)學,考古學和藝術品,例如油畫和壁畫。
X射線熒光光譜儀的不斷完善和發(fā)展所帶動的X 射線熒光分析技術已被廣泛用于冶金、地質、礦物、石油、化工、生物、醫(yī)療、刑偵、考古等諸多部門和領域。X射線熒光光譜分析不僅成為對其物質的化學元素、物相、化學立體結構、物證材料進行試測,對產品和材料質量進行無損檢測,對人體進行醫(yī)檢和微電路的光刻檢驗等的重要分析手段,也是材料科學、生命科學、環(huán)境科學等普遍采用的一種快速、準確而又經濟的多元素分析方法。
X射線熒光光譜儀可分為具有高分辨率的光譜儀,分辨率較低的便攜式光譜儀,和介于兩者之間的臺式光譜儀。高分辨率光譜儀通常采用液氮冷卻的半導體探測器,如Si(Li)和高純鍺探測器等。低分辨便攜式光譜儀常常采用正比計數器或閃爍計數器為探測器,它們不需要液氮冷卻。近年來,采用電致冷的半導體探測器,高分辨率譜儀已不用液氮冷卻。同步輻射光激發(fā)X射線熒光光譜、質子激發(fā)X射線熒光光譜、放射性同位素激發(fā)X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、微區(qū)X射線熒光光譜等較多采用的是能量色散方式。