X射線熒光光譜法是一個相對分析方法,任何制樣過程和步驟必須有非常好的重復(fù)操作可能性;用于制作校準(zhǔn)曲線的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品必須經(jīng)過同樣的制樣處理過程。
熒光x射線分析實際上又是一個表面分析方法,激發(fā)只發(fā)生在試樣的淺表面,必須注意分析面相對于整個樣品是否有代表性。此外,樣品的平均粒度和粒度分布是否有變化,樣品中是否存在不均勻的多孔狀態(tài)等。樣品制備過程由于經(jīng)過多步驟操作,還必須防止樣品的損失和沾污。
由樣品制備和樣品自身引起的誤差有以下幾種:
(1)樣品的均勻性。
(2)樣品的表面效應(yīng)。
(3)粉末樣品的粒度和處理方法。
(4)樣品中存在的譜線干擾。
(5)樣品本身的共存元素影響即基體效應(yīng)。
(6)樣品的性質(zhì)。
(7)標(biāo)準(zhǔn)樣品的化學(xué)值的準(zhǔn)確性。
引起樣品誤差的原因:
(1)樣品物理狀態(tài)不同樣品的顆粒度、密度、光潔度不一樣;樣品的沾污、吸潮,液體樣品的受熱膨脹,揮發(fā)、起泡、結(jié)晶及沉淀等。
(2)樣品的組分分布不均勻樣品組分的偏析、礦物效應(yīng)等。
(3)樣品的組成不一致引起吸收、增強(qiáng)效應(yīng)的差異造成的誤差
(4)被測元素化學(xué)結(jié)合態(tài)的改變樣品氧化,引起元素百分組成的改變;輕元素化學(xué)價態(tài)不同時,譜峰發(fā)生位移或峰形發(fā)生變化引起的誤差。
(5)制樣操作在制樣過程中的稱量造成的誤差,稀釋比不一致,樣品熔融不*,樣品粉碎混合不均勻,用于合成校準(zhǔn)或基準(zhǔn)試劑的純度不夠等。